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公示公司基于CVD方法在金属基底上生长的石墨烯薄膜具有优异的可扩展性和可控性。连续(c)通过PECVD一步合成高质量石墨烯。

目前，区域通过调控制备条件（制程、设备以及关键参数等），能够比较好地控制石墨烯的主要结构特征。开展(d)氧化处理前石墨烯/Cu箔的光学照片。业务(c)石墨烯/铜箔的紫外氧化处理示意图。

售电(b)氧化后满覆盖石墨烯/铜箔的BF-OM图像。【引言】石墨烯具有高机械强度、蒙东名单热和电子传导能力，蒙东名单并且对所有气体都不渗透，因此其在高性能电子器件、保护涂层和阻隔薄膜等领域具有极大的应用前景。

公示公司(c)快速热CVD系统的示意图和生长过程。

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